研究方向：

先進半導體芯片製造用的高端光刻膠、光刻材料和相關工藝集成的研究（微電子方向）

90nm～5nm節點高端半導體光刻材料的研發

探索Moore's Law的材料極限，研發下一代10～5 nm分辨率的光刻材料DSA

研究DSA的圖像化工藝和plasma刻蝕工藝

納米器件的設計和加工

納米材料的精密設計和合成 （材料方向）

新型納米材料🧹、器件的研發，序列可控聚合物及其納米復合材料的研究

學術經歷：

1997年-1998年University of California, Berkeley, Chemistry Dept. 化學系🪥，博士後

1996年-1996年美國University of Akron, Polymer Science 高分子系🪽📁，博士後

1992年-1995年日本Tokyo institute of technology 高分子化學🚧，博士

1990年-1992年日本京都大學，高分子化學碩士

1984年-1988年中山大學🧎🏻‍♂️‍➡️，有機合成學士

工作經歷：

2015年-至今沐鸣娱乐🧖🏽‍♀️，教授、國家高層次人才

2014年-2015年TOK美國，Fellow

2001年-2014年美國Intel公司，光刻工藝研發工程師&FMO材料研發主管

1998年-2000年美國ROHM&HAAS公司🍋，高級研究員