研究方向💁🏽：

集成電路先進光刻工藝及光刻相關設備、光刻材料、光刻相關算法軟件

教育背景👩🏿‍🎤：

2010年09月～2015年06月 沐鸣娱乐信息科學與工程沐鸣🪻，光學🏃🏻‍➡️🦺，博士

2006年09月～2010年06月 山東大學信息科學與工程沐鸣👭🏼，光信息科學與技術，本科

工作學術經歷🙋‍♂️：

2021年06月-至今 沐鸣，青年研究員

2018年11月-2021年05月 上海集成電路研發中心有限公司，新型器件和材料實驗室

2015年07月 -2018年11月 中芯國際集成電路製造（上海）有限公司🧝🏿，光刻研發部 

獲獎或榮譽：

2020年中國國際半導體技術大會（CSTIC 2020）最佳年輕工程師二等獎

代表性成果：

1.Yanli Li，Qiang Wu, and Shoumian Chen,“The Soft X-Ray Lithography Performance under Typical Single-digit nm Logic Design Rules, Including Stochastics and Defectivity”🏌🏼‍♀️，IEEE Xplore , 2020.

2.Yanli Li🫛，Qiang Wu, and Yuhang Zhao, “A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns and Stochastic Printing Failures in a 5 nm Logic Process with EUV Lithography”🤽🏻‍♂️，IEEE Xplore , 2020.

3.Yanli Li，Qiang Wu, and Shoumian Chen，“A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns in a 5 nm Logic Process with EUV Photolithography Process”，J. Microelectron. Manuf. 2019, 2(4):7.

4.Yanli Li*, Xiaona Zhu, Shaofeng Yu, and Qiang Wu*，“A Study of the Advantages to the Photolithography Process brought by the High NA EUV Exposure Tool in Advanced Logic Design Rules ”💆‍♀️，IEEE Xplore , 2021.

5.Qiang Wu*，Yanli Li*, Xiaona Zhu, and, Shaofeng Yu，“The Discussion of the Typical BEOL Design Rules from 3 nm to 2 nm Logic Process with EUV and High NA EUV Lithography”，IEEE Xplore , 2021. 

6.Qiang Wu*，Yanli Li*, Liwan Yue*, and, Zhibiao Mao🥘，“Process Model Guided Photoresist Formulation Optimization”🏃🏻‍➡️，IEEE Xplore , 2021.